Page 32 - 网络电信2024年7月刊
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光通信

高速薄膜铌酸锂相位调制器设计及制备

胡文良1 尚成林1 潘安1 齐志强2 王晨晟2
1.华中科技大学—武汉光电国家研究中心 2.华中光电技术研究所—武汉光电国家研究中心

                          摘 要:针对微波光子系统对片上高速调制器件的使用需求,基于铌酸锂材料
                    的线性电光效应,研究通过开展片上器件的光电联合仿真设计,利用与CMOS工艺相
                    兼容的半导体器件制备方法,将低损耗铌酸锂波导、高效耦合模斑转换器、高频微
                    波信号传输线等片上光电器件集成在绝缘体上的铌酸锂(LNOI)晶圆上,实现调制
                    器芯片的片上集成化;采用微光学耦合工艺实现芯片实现光纤阵列的光信号输入输
                    出;采用引线键合方式实现芯片-薄膜电阻-射频接头的阻抗匹配和电信号低损传
                    输;最后采用平行封焊完成芯片-光纤-管壳的气密性封装,以提高调制器的可靠性
                    和环境适应性。测试得到器件光功率插损<6.5 dB,调制带宽>15 G(@3 dB),动态半
                    波电压<6 V(@10 GHz),满足光电振荡器等相关微波光子器件的应用需求。

                          关键词:薄膜铌酸锂;相位调制器;微波光子;片上集成;光电振荡器

    1 引言                               系统,包括:(1)单模及多模波导结构(2)MMI/DC/Y分支等分
                                       光结构(3)垂直光栅(GC)/端面耦合器(SSC)等输入输出结
      微波光子学作为一门新兴的学科,涉及微波信号的产生、        构。由于本研究不涉及推挽结构的分光器件设计及制备,本节
调制、频率转换及探测等相关技术,整个系统通过在光量子领            将对(1)及(3)两种结构,结合相位调制器芯片应用需求,
域对微波电磁响应进行处理,具备低损耗、大带宽、低延时、            进行LNOI上相关器件的结构模拟仿真。
高可靠、可快速调谐等优点[1-4]。包括可调谐激光器、电光调制
器、光电探测器、光子滤波器等一系列重要的光电器件相互融                 2.1 单模波导设计
合发展而成的集成微波光子学[5-6],在微波光子系统链路中起到              光学波导是片上光子集成领域最基础以及最重要的器件,
重要作用。通常而言,通过电光调制器将微波信号调制到光载            正如同金属线在集成电路中的作用。它的主要特征是在片上对
波上以提高工作带宽,再采用高性能的光学滤波方式(片上微            光束进行局域化限制,使光束以特定光学模式分布在波导中进
环、高Q值回音壁等)可以实现低噪声因子高纯净度的微波信            行传输。因此首先需要对LNOI上的单模波导进行结构优化设
号产生[7-8]。电光相位调制器作为光子微波系统的基础组件,在        计。
光子射频前端、通讯系统、电光频率梳、瞬态成像系统及量子                  本研究采用的LNOI晶圆均来自于济南晶正,选择500 nm
光学中都具有重要作用。A.J.ercante等[9]制备出半波电压低至    厚度铌酸锂层,2.5μm厚度二氧化硅埋氧层,525μm厚度硅衬
3.8 V的LNOI相位调制器,同时也带来了10.5 d B左右的光功率   底,4英寸大小,X切向的LNOI晶圆。首先要确定的就是单模脊
损耗。Ren Tianhao等[10]制备了双通道的LNOI相位调制器,半  形光波导的几何结构参数,这不仅决定了模场的传输特性,也
波电压低至4.5 V,并利用此相位调制器实现了40个边带的电光        和流片工艺、器件指标密切相关。
频率梳。针对上述微波光子系统对电光调制单元的应用需求,                  首先研究改变LNOI脊形波导宽度对模式传输的影响。
基于铌酸锂材料的线性电光效应及LNOI的片上集成特点[11,12],     设置脊型波导的平板层厚度为240 nm,通过改变波导宽度
本研究通过开展片上器件的光电联合仿真设计,利用与CMOS工          (0.5~4.5μm),仿真得到所有模式的有效折射率,如图1所
艺相兼容的半导体器件制备及光电器件封装方案,实现调制器            示。
芯片及其器件的集成化及小型化。该器件测试结果显示光功率                  从图中可以看到在宽度大于1.1μm时,高阶模TE模开始出
插损<6.5dB,调制带宽>15G(@3dB),动态半波电压<6V(@10  现,在宽度在2.45~2.6之间,TE1模与TM0模式发生交换,此区
GHz),满足光电振荡器等相关微波光子器件的应用需求。            域称之为模式杂化区,这种作用效果可用于设计偏振转化器,
                                       该仿真结果和文献[13]中相一致,证明仿真方法的准确性。为
    2 LNOI调制器光学仿真                      了保证模式传输损耗处于较低水平,在合理的范围内波导宽度
                                       应该尽可能大一些,因此在平板层厚度为240 nm的情况下,波
      基于LNOI的调制器的基本光子组件类似于硅光(SiP)器件    导宽度取0.95μm,有效折射率为1.873。

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