Page 36 - 网络电信2017年5月刊上

光通信

平面光波导刻蚀问题研究

汪沈炎 陈一博 林尚亚 浙江富春江光电科技股份有限公司

摘要：在光通信领域，目前单一形式的各
类光学元件走向集成光学之路，光无源器件的
平面光波导技术采用半导体制程，不仅具有低
成本的优势，并且具有整合器件的能力，典型
的平面光波导工艺流程，因此，浙江富春江光
电科技股份有限公司进行大力投入，生产平面
光波导产品。 本文从平面光波导刻蚀应用最为
广的等离子（ICP）刻蚀技术详细介绍了各影响
刻蚀的因素及解决办法，以PLC晶圆为例，介
绍了富春江光电在刻蚀过程中的发现与研究，
供同行们参考。

关键词：目的；光波导晶圆；刻蚀；良率

一、为什么要进行刻蚀工艺研究 图3

图1

二、目前现状 三、不良原因分析

图2 图4 刻蚀主要不良原因关联图

50 四、各参数影响

1.工艺压强增加的时候线宽损失下降。
2.上射频增加的时候，刻蚀数率增加线宽损失下降，波导

网络电信 二零一七年五月