Page 23 - 网络电信2016第16期
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技术前沿
自主创新,提升光纤预制棒核心竞争力
吴椿烽 蒋新力 钱宜刚 沈一春 中天科技精密材料有限公司
回顾光纤预制棒制造工艺的历史和现状,介
绍中天科技以引进、吸收与消化模式,开发出
VAD+OVD全合成工艺制备G.652光纤预制棒,
并通过进一步的自主开发与技术升级,实现大
尺寸光纤预制棒的制造的历程。同时,展现采
用三步法工艺制造超低损耗、大有效面积等光
纤预制棒以实现高端产品多样化的方向。最后
讨论围绕精细制造这一企业文化实现提质增效
的目标。
一、引言 备工艺。表1列出了这四种主要制棒工艺的特点及应用。
光纤预制棒的生产流程通采用两步法制备芯棒和外包层。
光纤通信技术已彻底改变了人类的生活,2009年诺贝尔
物理学奖获得者高锟博士于1966年首先提出:基于二氧化硅的 芯棒通常由芯层和内包层两个部分构成,它决定了光纤的光学
石英光纤,当玻璃纤维的损耗率下降到20dB/km时,光纤通信 性能;外包层部分占了预制棒总体体积的90%左右,决定了光纤
就会成为可能。这为世界光通信技术的发展奠定了理论基础。 预制棒的制造成本。在过去的三十年,单模光纤G.652一直是主
光纤预制棒是光纤、光缆的重要基础材料,被誉为皇冠上的明 流的通信光纤,由于VAD工艺适于制造剖面简单的光纤,且得
珠,其制造技术也成为光纤、光缆的核心技术。我国的光纤研 益于技术转让使得VAD所制造的芯棒比例大幅上升;而OVD受专
究起始于20世纪70年代,几乎与国外同步。但在随后的发展历 利技术限制,应用范围局限。管内沉积工艺(MCVD、PCVD)受
程中,我国对光纤预制棒的制备技术迟迟未能走出实验室,直 尺寸小、沉积速率低等因素的限制,发展相对缓慢。当今,国
到20世纪90年代,开始通过各种合资方式引进国外光纤预制棒 内光纤预制棒企业充分利用四大工艺特长点进行光纤预制棒的
制造技术,然而仍未能掌握预制棒制造的的核心技术[1]。很长 制造。随着光通信市场飞速发展,对光纤产品需求的迅速多样
一段时间,光纤预制棒技术都掌握在美国、日本的少数企业手 化,推进了生产厂家生产不同性能的、在经济上具有竞争力的
中。在2009年以来,中天科技以引进、吸收和消化模式,开启 各种光纤产品以满足这种多样化的需求。目前,各种技术路线
了自主创新光纤预制棒的制造之门,历经多年努力,光纤预制 都有生产厂家采用,所生产的光纤符合国际标准,在市场上有
棒制造水平已取得了突破性的发展。 相当的竞争力。
二、光纤预制棒制造工艺 三、光纤预制棒技术升级与产品多样化
MCVD、PCVD、VAD和OVD工艺是目前光纤预制棒制造技术中 1.全合成技术的创新
主要的四大气相沉积工艺[2]。其中,VAD、PCVD是国内最广泛使 2009年,中天科技开始涉足光纤预制棒领域。通过引进、
消化、吸收日立技术,自主创新,成为当时中国唯一一家独资
用的芯棒制备技术。OVD是外包层或石英套管最适宜和经济的制 生产芯棒和外包层的企业,并在2010年开始批量生产。这标志
着我国光纤预制棒受制于国外厂商的局面被打破,该项目的成
表1 四大气相沉积工艺的特点及应用 功,拓展了中天科技的光纤光缆产业链,进一步增强了公司的
核心竞争力,实现了棒、纤、缆一体化和产品线特色化的发展
类型 沉积速率 沉积效率 产品 烧结与成棒 主要应用 战略。
(g/min) (%) 灵活性 中天科技采用VAD+OVD全合成工艺制备G.652光纤预制棒,
很容易 这种预制棒制造技术的组合具有最高的性价比和很强的市场竞
MCVD 0.5~1.5 50~60 沉积、熔缩, 特种光纤和多 争力。通过引进消化吸收再创新等对VAD、OVD设备一系列的技
(Modified 很容易 难于彻底脱水,棒 模光纤 术升级与工艺优化,满足了大尺寸光纤预制棒的制造要求,达
Chemical Vapor 到了国际先进水平。
Deposition) 容易 尺寸受限 通过预制棒制造技术和石英加工技术的不断积累与改进,
困难
PCVD 1.0~3.0 85~100 沉积、熔缩,
(Plasma activated 难于彻底脱水,棒 所有通信光纤
Chemical Vapor
尺寸受限
Deposition )
OVD 50~70 脱水烧结成棒,尺 G.652、多
(Outside Chemical 60~120 寸不受限 模、外包层
Vapor Deposition) (套管)
VAD 10~20 50~70 脱水烧结成棒,尺 G.652、
(-Vapor phase
Axial Deposition) 寸不受限 G.657A1/A2
32 网络电信 二零一六年九月